Atributo:Palabras clave

De Censo General Equipamiento
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Esta es una propiedad de tipo Cadena de caracteres.


Paginas usando el atributo “Palabras clave”

Mostrando 25 páginas que usan esta propiedad.

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C

CEPAVE/microscopio nikon e200 +Microscopio  +, marca Nikon  +
CEPAVE/olimpus/bx51tf +Fluorescencia  +
CEQUINOR/Analizador Termogravimétrico SHIMADZU TGA 50 +Termobalanza  +
CEQUINOR/Analizador diferencial SHIMADZU DTA 50 +Termobalanza  +
CEQUINOR/BRUKER EQUINOX +Equinox  +
CEQUINOR/BRUKER IFS 66 +Bruker  +
CEQUINOR/Cromotógrafo de gases Shimadzu +Cromatógrafo  +
CEQUINOR/Difractómetro de Rayos X de mesa +Difractómetro  +
CEQUINOR/Espectrofotómetro Shimadzu +Espectrofotómetro  +
CEQUINOR/Espectrofotómetro UV-VIS Hewlett Packard +Espectrofotómetro  +
CEQUINOR/Espectrofotómetro UV-VIS Shimadzu +Espectrofotómetro  +
CEQUINOR/Espectrometro Raman Horiba Jobin Yvon +Espectrómetro Raman  +
CEQUINOR/Espectroscopía de Matrices +Matrices  +
CEQUINOR/Espectómetro infrarrojo Nexus FTIR +FTIR Nicoleth Nexus  +
CEQUINOR/Potenciostato/Galvanostato EG&G +Potenciostato  +
CETMIC/Difractómetro de rayos X +Difracción de rayos X- Análisis de composición-  +
CETMIC/Dilatómetro hasta 1500 C, Netzsch. +dilatómetro- dilatometría-evaluación térmica  +
CETMIC/Equipo analizador de DTP +tamaño de partícula-tamaño medio-distribución de tamaños  +
CETMIC/Equipo analizador de Punto Zero Carga +potencial z-tamaño de partícula- carga superficial-movilidad electroforética  +
CETMIC/Equipo de ATD TG +ATD TG  +, Analisis Térmico Diferencial  +, Termogravimétrico  +,
CETMIC/Equipo de Difracción de Rayos X +Análisis quimico  +, Difracción de Rayos X  +, polvos cerámicos  +
CETMIC/Equipo de Medida de Módulo de Flexión de materiales refractarios +Hot Mor  +, flexión en caliente  +, materiales cerámicos  +
CETMIC/Equipo para determinación de módulo elástico +determinación de módulo elástico en materiales  +
CETMIC/Equipo para determinar Punto Isoeléctrico de Pastas +punto cero carga  +
CETMIC/Equipo para secado adiabatico por aspersión +spray dry  +
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