Diferencia entre revisiones de «IFLP/Cámara de ablación catódica»

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|Palabras clave=películas delgadas, superredes,nanofabricación,microfabricación,fabricación,óxidos
 
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Última revisión de 14:13 18 jul 2019

Institución IFLP
Denominación Cámara de ablación catódica. Sputtering. Deposición de material sobre diferentes superficies.
Tipo
Descripción Cámara de sputtering AJA (ATC Orion series 8 UHV). Realización de depósitos de películas de espesor variado de metales y óxidos sobre diferentes sustratos.
Accesorios 2 bombas mecánicas,2 bombas turbomoleculares,aditamento para medir velocidades de deposición,chiller para refrigeración
Año 2009
Aplicaciones Depósitos de películas metálicas, óxidos y otros sistemas. Cámara reactiva en diferentes atmósferas (Ar, N2, O2)
Sistema Nacional
Nro. STAN
Palabras clave películas delgadas, superredes, nanofabricación, microfabricación, fabricación, óxidos
Ubicación Laboratorio 10
Sectores de transferencia CLANAE2010 731100, 731900, 742200, 803300, 401190, 742103, 272090
Responsable equipamiento Claudia Rodríguez Torres, Laura Damonte
Titular del bien CONICET - PME
Nro de inventario

Detalle de los sectores de actividad a los que se puede transferir el servicio de este equipo:

CLANAE2010 Denominación Descripción
272090 Producción de metales no ferrosos n.c.p. y sus semielaborados
401190 Generación de energía n.c.p. (Incluye la producción de energía eléctrica mediante fuentes de energía solar, biomasa, eólica, geotérmica, mareomotriz, etc.)
731100 Investigación y desarrollo experimental en el campo de la ingeniería y la tecnología
731900 Investigación y desarrollo experimental en el campo de las ciencias exactas y naturales n.c.p.
742103 Servicios relacionados con la electrónica y las comunicaciones
742200 Ensayos y análisis técnicos
803300 Formación de posgrado
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Accesorios2 bombas mecánicas,2 bombas turbomoleculares,aditamento para medir velocidades de deposición,chiller para refrigeración +
AplicacionesDepósitos de películas metálicas +, óxidos y otros sistemas. Cámara reactiva en diferentes atmósferas (Ar +, N2 + y O2) +
Año2.009 +
DenominaciónCámara de ablación catódica. Sputtering. Deposición de material sobre diferentes superficies. +
DescripciónCámara de sputtering AJA (ATC Orion series 8 UHV). Realización de depósitos de películas de espesor variado de metales y óxidos sobre diferentes sustratos. +
InstituciónIFLP +
Palabras clavepelículas delgadas +, superredes +, nanofabricación +, microfabricación +, fabricación + y óxidos +
Responsable equipamientoClaudia Rodríguez Torres + y Laura Damonte +
Sectores de transferencia731100 +, 731900 +, 742200 +, 803300 +, 401190 +, 742103 + y 272090 +
Titular del bienCONICET - PME +
UbicaciónLaboratorio 10 +