Diferencia entre revisiones de «IFLP/Cámara de ablación catódica»

Última revisión de 14:13 18 jul 2019

Institución	IFLP
Denominación	Cámara de ablación catódica. Sputtering. Deposición de material sobre diferentes superficies.
Tipo
Descripción	Cámara de sputtering AJA (ATC Orion series 8 UHV). Realización de depósitos de películas de espesor variado de metales y óxidos sobre diferentes sustratos.
Accesorios	2 bombas mecánicas,2 bombas turbomoleculares,aditamento para medir velocidades de deposición,chiller para refrigeración
Año	2009
Aplicaciones	Depósitos de películas metálicas, óxidos y otros sistemas. Cámara reactiva en diferentes atmósferas (Ar, N2, O2)
Sistema Nacional
Nro. STAN
Palabras clave	películas delgadas, superredes, nanofabricación, microfabricación, fabricación, óxidos
Ubicación	Laboratorio 10
Sectores de transferencia CLANAE2010	731100, 731900, 742200, 803300, 401190, 742103, 272090
Responsable equipamiento	Claudia Rodríguez Torres, Laura Damonte
Titular del bien	CONICET - PME
Nro de inventario

Detalle de los sectores de actividad a los que se puede transferir el servicio de este equipo:

CLANAE2010	Denominación	Descripción
272090	Producción de metales no ferrosos n.c.p. y sus semielaborados
401190	Generación de energía n.c.p.	(Incluye la producción de energía eléctrica mediante fuentes de energía solar, biomasa, eólica, geotérmica, mareomotriz, etc.)
731100	Investigación y desarrollo experimental en el campo de la ingeniería y la tecnología
731900	Investigación y desarrollo experimental en el campo de las ciencias exactas y naturales n.c.p.
742103	Servicios relacionados con la electrónica y las comunicaciones
742200	Ensayos y análisis técnicos
803300	Formación de posgrado

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 |Accesorios=2 bombas mecánicas,2 bombas turbomoleculares,aditamento para medir velocidades de deposición,chiller para refrigeración
 |Año=2009
-|Aplicaciones=Cámara de ablación catódica (sputtering) para fabricación de películas delgadas desde espesores de algunos nanometros hasta los micrones. Posee cuatro blancos que se pueden usar simultánea o alternadamente lo cual permite el crecimiento de mezclas o superredes combinando más de un material. Posee un sistema de calefacción del sustrato que habilita a depositar a temperaturas entre ambiente y 800 °C. Se puede crecer en atmósfera inerte (Ar) o atmósferas reactivas (N2, O2). Se puede crecer de tanto películas metálicas cómo óxidos.
+|Aplicaciones=Depósitos de películas metálicas, óxidos y otros sistemas. Cámara reactiva en diferentes atmósferas (Ar, N2, O2)
 |Palabras clave=películas delgadas, superredes,nanofabricación,microfabricación,fabricación,óxidos
 |Ubicación=Laboratorio 10
+|Sectores de transferencia=731100, 731900, 742200,803300,401190,742103,272090
 |Responsable equipamiento=Claudia Rodríguez Torres, Laura Damonte,
 |Titular del bien=CONICET - PME
 }}