Datos de navegación: Equipamiento
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Palabras clave:
1450°C (1) ·
ATD TG (1) ·
Adhesión (1) ·
Analisis Térmico Diferencial (1) ·
Análisis quimico (1) ·
Difracción de Rayos X (1) ·
Envejecimiento acelerado (6) ·
Envejecimiento climático acelerado (2) ·
Horno Mufla hasta 1600°C (1) ·
Hot Mor (1) ·
Mufla 1700°C (1) ·
Porosidad (1) ·
Prensa isostática (1) ·
Termogravimétrico (1) ·
adherencia (1) ·
ambiente 100% humedad relativa (1) ·
ambiente corrosivo (1) ·
ambiente industrial (1) ·
ambiente marino (2) ·
aplastamiento bajo carga (1) ·
arco de xenon (2) ·
calcinación (2) ·
determinación (1) ·
extrusora prensa (1) ·
flexión en caliente (1) ·
horno (1) ·
materiales cerámicos (7) ·
microscopio optico (1) ·
muestras (1) ·
mufla hasta 1200°C (1) ·
permeabilidad de la película (1) ·
polvos cerámicos (1) ·
probetas (1) ·
radicación UV (2) ·
reflexión (1) ·
refractarios (1) ·
spray dry (1) ·
transmsión (1) ·
técnica por tracción (1)
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Titular del bien:
Abajo se muestran hasta 21 resultados comenzando por el n.º 1.
Ver (250 previas | 250 siguientes) (20 | 50 | 100 | 250 | 500).
C
- CETMIC/Equipo de ATD TG
- CETMIC/Equipo de Difracción de Rayos X
- CETMIC/Equipo de Medida de Módulo de Flexión de materiales refractarios
- CETMIC/Equipo para secado adiabatico por aspersión
- CETMIC/Horno para determinar Aplastamiento bajo carga
- CETMIC/Horno para determinar Variación Lineal Permanente hasta 1600°C
- CETMIC/Microscopio electrónico hasta 500 aumentos
C cont.
C cont.
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