Datos de navegación: Equipamiento
- Escoger una categoría:
- CLANAE2010 (810)
- Equipamiento (517)
- Responsable equipamiento (84)
- Sistemas Nacionales (9)
- Unidades ejecutoras (29)
Haz click en uno o más items de abajo para precisar tus resultados.
Institución: (Haga click en la flecha para agregar otro valor)
Denominación:
(No hay valores para este filtro)
Aplicaciones:
Análisis de muestras. Método del Polvo. (1) ·
Caracterización de fibras ópticas (1) ·
Comunicaciones ópticas (1) ·
Detección y generación de THz (1) ·
Ensayo de aplastamientos bajo carga de materiales cerámicos (1) ·
Ensayos de flexión en caliente de materiales cerámicos-refractarios (1) ·
Espectrofotometría UV-VIS-NIR (1) ·
Filtrado de frente de onda (1) ·
Materiales cerámicos (2) ·
Medición de corrientes eléctricas de baja intensidad (1) ·
Observación de muestras por reflexión y transmision. (1) ·
Optica coherente (1) ·
Para empalmar conductores de fibras ópticas (1) ·
Procesamiento de imágenes (1) ·
Registro de señales luminosas de baja intensidad (1) ·
Secado de suspensiones (1) ·
arcillas (2) ·
calcinaciones (1) ·
calcinación de probetas de materiales cerámicos (2) ·
determinación de VLP de materiales cerámicos. (1) ·
encriptación (1) ·
escritura láser directa (1) ·
etc. (2) ·
fabricación de nanopartículas en solución (1) ·
micromaquinado de sustratos ópticos (1) ·
procesamiento opto-digital (1) ·
refractarios (2) ·
vidrios (1)
Sistema Nacional:
STAN:
Palabras clave:
Sectores de transferencia:
19.1 (1) ·
23.10 (1) ·
23.9 (9) ·
23.910 (10) ·
23.920 (10) ·
23.93 (1) ·
23.94 (10) ·
23.95 (10) ·
23.99 (1) ·
8.990 (1) ·
B 8.8.1 (9) ·
B 8.8.1. (1) ·
Comunicaciones ópticas (1)
Titular del bien: (Haga click en la flecha para agregar otro valor)
Abajo se muestran hasta 21 resultados comenzando por el n.º 1.
Ver (250 previas | 250 siguientes) (20 | 50 | 100 | 250 | 500).
C
- CETMIC/Equipo de ATD TG
- CETMIC/Equipo de Difracción de Rayos X
- CETMIC/Equipo de Medida de Módulo de Flexión de materiales refractarios
- CETMIC/Equipo para secado adiabatico por aspersión
- CETMIC/Horno para determinar Aplastamiento bajo carga
- CETMIC/Horno para determinar Variación Lineal Permanente hasta 1600°C
- CETMIC/Microscopio electrónico hasta 500 aumentos
C cont.
C cont.
Ver (250 previas | 250 siguientes) (20 | 50 | 100 | 250 | 500).
